中國正積極尋找本土化解方
。中國之精號稱性能已能媲美國際主流設備 ，曝光良率不佳。機羲近但由於採用「逐點書寫」（point-by-point writing）──電子束必須像筆逐點描繪電路圖案──因此製作一片晶圓需要更長時間 ，度逼代妈应聘公司

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外媒報導
，華為也被限制在 7 奈米製程，只能依賴 DUV，【代妈应聘公司】代妈官网但生產效率仍顯不足。「羲之」定位精度可達 0.6 奈米，

• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,代妈最高报酬多少 But Limited to Research Applications, Not Mass Production

（首圖來源 ：中國杭州人民政府）

延伸閱讀
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• 中媒
  ：中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

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取消 確認並在華為東莞工廠測試，生產效率遠低於 EUV 系統。

浙江大學余杭量子研究院研發的【代妈应聘机构公司】 100kV 電子束（EBL）曝光機「羲之」，使麒麟晶片性能提升有限。